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产品详情
简单介绍:
SMS-400多靶磁控溅射镀膜设备
详情介绍:
SMS-400多靶磁控溅射镀膜设备 ¥215000
真空腔室:L400×W400×H450mm(1Cr18Ni9Ti 上等不锈钢),立式方形结构,前开门结构,方便取、放基片、更换靶材以及真空腔室日常维护;采用304上等不锈钢,所有焊缝连接均采用氩弧自动焊接技术,焊接完成后,镀膜腔室(包括抽气管道、连接法兰等)均进行内表面抛光处理,以减少“出气”量,有利于真空度的提高及耐腐蚀;
样品台:尺寸210×210mm,可旋转:0-20r/min可调,配有气动基片台挡板,可从室温加热至300℃;可选配偏压清洗功能;
真空系统:采用机械泵真空系统(RV8,8L/s),真空极限可达5.0×10^-1Pa(加热烘烤条件下);真空测量采用单电阻真空计;
溅射靶:Φ4英寸2只(含靶挡板),靶角度及靶基距可调,各靶均有水冷(1P),保证各靶长时间稳定工作,兼容直流/射频电源溅射;
溅射电源:2台1000W全自动匹配射频溅射电源;
质量流量计:100sccm、50sccm 质量流量控制器各1套;
控制方式:采用PLC+触摸屏全自动控制系统;
前级阀:GDQ-40b 气动挡板阀;进气阀:Φ6mm,电磁截止阀;放气阀: Φ10mm,电磁截止阀;靶材:铜靶材Φ4英寸
报警及保护:对泵、磁控靶等缺水、过流过压、断路等异常情况进行报警并执行相应保护措施;完善的逻辑程序互锁保护系统