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  • 产品名称：高真空磁控溅射镀膜机

  • 产品型号：CK400
  • 产品厂商：其它品牌
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简单介绍：
高真空磁控溅射镀膜机 沈阳-托帕 CK400
详情介绍：
设备名称 品牌厂商 型号 是否标配 规格 数量 报价类型 售后服务 成交价
高真空磁控溅射镀膜机  沈阳-托帕  CK400  是  1.系统主要由溅射室、永磁磁控溅射靶（三个靶）、直流电源、全自动调谐射频电源、样品台、泵抽系统、真空测量系统、气路系统、电控系统等组成。 2.溅射室极限真空度：≤6.6x10-5?Pa （经连续烘烤除气后）；? 系统真空检漏漏率：≤5.0x10-7Pa.l／S； 系统从大气开始抽气：溅射室40分钟可达到6.6x10-4?Pa； 系统停泵关机12小时后真空度：≤5Pa 3.真空室为D型手动前开门结构，腔体打开方式采用手动前开门结构，表面进行电化学钝化处理 4.溅射室中配有3套60高性能永磁共焦磁控溅射靶（溅射靶角度可调），各靶可独立／顺次／共同工作，磁控靶通水冷却，磁控靶配有气动挡板结构。 5.系统配有500W直流电源2台，500W全自动调谐射频电源1台 6.加热旋转样品台可放置一片样品，?具有连续旋转功能，旋转0—20转／分连续可调，可加温至500℃。 7.系统配有气体质量流量控制进气系统 。 8.安装台架：整个设备安放在一个用承载式标准电箱上，箱体均进行喷塑处理。拆卸方便占地小 9、提供冷却水循环  1.0 国内含税价;
人民币 		  189800
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