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  • 产品名称：磁控离子溅射仪

  • 产品型号：CIS400
  • 产品厂商：其它品牌
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简单介绍：
CIS400磁控离子溅射仪
详情介绍：

CIS400磁控离子溅射仪   ￥52800


1．溅射靶头采用平面磁控靶设计；
2．系统采用单片机等微处理器控制，全数字显示；
3．彩色液晶屏显示，屏幕不小于 5 英寸；
4．*大功率400W ;
5．溅射真空度可任意设定，且*小调节量 0.1Pa；
6．可存储不少于 3 种靶材的工作参数；
7．*长溅射时间不小于 800 秒；
8．⾦、铂、银、等常⽤⾦属靶材；
9．极限真空优于1Pa；
10.输入电压：220V/50Hz
11.溅射电压：600V
12．工作电流：5-45mA任意可调；
13．可用实时曲线显示溅射电流和真空度。
14.粒子颗粒大小：6-10nm
15.真空室：Ø130*130mm 高强度玻璃
16.靶材尺寸：Ø57*0.12mm（Pt）

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