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产品详情
简单介绍:
双管滑动式1200℃四通道混气CVD系统- OTF -1200X-4- C4LVS
OTF-1200X-4-C4LVS 双管炉是 一个特殊的双管CVD系统,是专门为在金属箔上生长薄膜而设计,特别是应用在新一代能源关于柔性金属箔电极方面的研究。通过滑动炉子实现快速加热和冷却。
详情介绍:
OTF-1200X-4-C4LVS 双管炉是 一个特殊的双管CVD系统,是专门为在金属箔上生长薄膜而设计,特别是应用在新一代能源关于柔性金属箔电极方面的研究。通过滑动炉子实现快速加热和冷却。请点击下图观看炉子的工作原理。
特点:
双管滑动式1200℃四通道混气CVD系统- OTF -1200X-4- C4LVS
双石英管:外管直径100mm ,悬挂的内管直径 80. 金属箔缠绕在内管的外表面上发生CVD反应。2.双管的真空密封法兰:允许反应气体通过两管之间(10mm间隙)发生反应,冷却气体直接通入内 管
双石英管:外管直径100mm ,悬挂的内管直径 80. 金属箔缠绕在内管的外表面上发生CVD反应。2.双管的真空密封法兰:允许反应气体通过两管之间(10mm间隙)发生反应,冷却气体直接通入内 管
3.四通道质量流量计控制4路气体。
4.配有KF25快接和波纹管的高速机械泵。
5.炉子底部装有滑轨:炉子可以从一端滑向另一端,从而实现快速升温和降温.
技术参数
炉体
结构 |
· 高纯 Al2O3保温材料,保证了炉膛有极好的温度均匀性.
· 炉子底部的冷却风扇保证了热量正常对外释放.
· 密封法兰系统全不锈钢制作。
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电源
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电源:208-240VAC, 50/60Hz, 单相, 2.5KW ( 20A 保险丝)
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加热
温度 |
*高温度: 1100°C
连续温度: 1000°C
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加热区
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加热区长度: 440mm
恒温区长度: 120mm (±1°C) @400~1100°C 选择:
双温区炉可获得t 240mm 的恒温区
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加热
和 冷却 速度 |
*快的加热和冷却速度跟工作温度有关, 请点击下图可以看出*快的加热和冷却速度随温度的变化而变化。
( 在使用炉子之前,要校准工作温度和加热、冷却速度 )
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加热
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冷却 |
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石英管
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外管: OD: 4"x ID: 3.8"X55" Length (OD100 x ID 96 x 1400, mm
内管: OD:3.15: x ID x 2.95" x 55" Length (OD80 x ID 75 x 1500 mm )
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真空
法兰 |
· 一对 SS304不锈钢法兰,通过用两个高温“O”型圈紧密密封可获得高真空。
· 炉子底部装有一对滑轨
· 炉子可以手动从一端滑向另一端,实现快速的加热和冷却。
· 为了得到较快的加热速度,可以先将炉子预热,然后滑到放置样品的位置。
· 为了获得较快的冷却的速度,把炉子滑向另一端,同时将冷却气体通入样品所在的位置。
极限真空度: 10^-2 torr (机械泵)
10^-5 torr (分子泵)
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温控仪
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· 温控仪:带超温保护和PID调节的 30 段程序控制。
· 控温精度: +/-1°C
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混气
系统 |
4路精密质子流量计:数字显示、气体流量自动控制.
· MFC 1范围: 0~100 sccm
· MFC 2范围: 0~200 sccm
· MFC 3范围: 0~200 sccm
· MFC 4范围: 0~500 sccm
气路: 4 路
流量精度: 0.2%
进气和出气接口: 1/4" 卡套
一个混气罐.
每路气路都有一个独立的不锈钢针阀控制。
通过控制面板上的旋钮来调节气体流量. 请看下图
MFC 面板(点击放大)
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真空泵
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· 安装在移动架底部的机械泵,真空度达 10-3 Torr.
· 真空泵与手动挡板阀之间用KF25 快接与不锈钢波纹管连接 .
· 数字真空表安装在一端的法兰上.
·
选择: 可以配分子泵,真空度达 10-5 Torr
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作为基片用的25um厚的
铜箔 (选配) |
生长石墨烯的铜箔 (150m length x 150mm width x 25um thickness)
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尺寸(mm)
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炉体: 550 x 380 x 520
移动架: 600x600x597
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净重
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300 lb
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保修期
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一年质保期 (耗材:如炉管,“O”型圈,和加热元件等不在保修范围内)
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认证
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CE 认证
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